碳納米線生長設備

碳納米線生長設備

主要特點

　　公司研制的連續碳納米管、納米線生長專用設備。由氣流控制系統、液體注入系統、多段溫度可控多區生長系統、水冷卻系統、碳納米線或膜收集系統，紅外烘干系統等組成。生長爐的最高溫度1400℃，并可在0-1400℃之間連續可調，垂直式分布熱場，兩點控溫，設備頂部設有注液口、導流器。本款碳納米管或膜CVD設備可以實現連續生長不間斷的特點，是碳納米管或膜產業化的重大突破。

技術參數

　　1、爐管下面加水槽，材質為不銹鋼材質，水槽為梯形結構設計，方便出絲操作。

　　2、水槽內，爐管正下方位置加收絲輪，并有電機驅動，收絲輪材料為不銹鋼，直徑40mm，表面光滑。

　　3、爐管下端加喇叭口，截面為方形，兩個面(正面和右側免)鑲嵌一塊100x100mm的有機玻璃(可視面積為70x70mm)，便于觀察出絲情況。

　　4、注液針頭伸入爐內高度可調，材質不銹鋼管，外徑3mm，可與粗管相連接。

　　5、溶液注射泵與爐體等高，縮短注射器至爐體注液口距離，注射泵和注液口用軟管相連接。

　　6、氣路管道全部改為不銹鋼管。

　　7、爐內注液口噴嘴溫度可測量，法蘭經過改裝為鎧裝法蘭，方便測溫。

　　8、爐管下端法蘭采用水冷法蘭，水冷機客戶自備。

　　9、加熱爐是否需要考慮與下面方管可拆分，方便叉車操作，以便于更換爐管。

　　10、 電控柜長度加長200mm，方便電控部分安裝。

　　11、 收絲部分采用三個步進電機控制，轉速為0-100r/min，連續可調。

　　12、 注液口法蘭上的熱電偶可調節伸入的距離，方便測溫。

碳納米線生長設備